塗裝行業中的真空鍍膜技術以及（jí）其優點介紹

     真空鍍膜是真（zhēn）空應用領域的一個（gè）重要（yào）方麵，它是以（yǐ）真空技術為基（jī）礎，利（lì）用（yòng）物理或化（huà）學方法，並（bìng）吸收（shōu）電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一（yī）係（xì）列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真空（kōng）中把金屬、合金或（huò）化合物進行蒸（zhēng）發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基（jī）體）上凝固並（bìng）沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空（kōng）鍍膜技術基（jī）本都是在處於真空（kōng）的環境下進（jìn）行的，因（yīn）此人們稱它們為真空鍍膜技術。產品鍍膜的過程是真空環境（jìng），真空度高。鍍膜機內部氣壓極低，產品中的添加劑、油脂、水分均會溢出。

　　真空鍍膜的方法很多，其（qí）中有以下三點：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使（shǐ）蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表麵，凝結（jié）而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需（xū）鍍膜的（de）基體放（fàng）在陰極對麵，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的（de）室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直（zhí）流電源，便激發輝（huī）光（guāng）放電，帶正（zhèng）電的氬離子撞（zhuàng）擊陰極，使其射出原子，濺射出的原（yuán）子通過惰性氣（qì）氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物（wù），獲得沉積薄膜的過程。

　　在真（zhēn）空條件下（xià）成膜（mó）有很（hěn）多優點：可減少蒸發材（cái）料的原子、分（fèn）子在飛向基板過程（chéng）中於分子的碰撞，減少氣體（tǐ）中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜（mó）過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質（zhì）的量，從而提供膜層的致密度、純（chún）度（dù）、沉積速率和（hé）與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓（yā）力等（děng）於或低於10-2Pa，對於蒸發源與基板距（jù）離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力（lì）更（gèng）低。

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