真（zhēn）空電鍍的工藝原理

真空電鍍法是在真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸（zhēng）發，冷（lěng）卻後在塑料表麵形成金屬薄膜的方法。常（cháng）用的金屬（shǔ）是鋁等低熔點金屬。

加（jiā）熱金屬的方法：可以利用電阻產（chǎn）生的熱能，也可以利（lì）用電子束。

在對塑料製品實施蒸鍍時，為了確保金屬（shǔ）冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此（cǐ）外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。置待鍍金屬（shǔ）和被鍍塑料製品於真空室內，采用一定（dìng）方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或（huò）升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表麵凝聚（jù）成金屬薄膜。

在真空（kōng）條（tiáo）件下可減少蒸發材料的原子、分（fèn）子在（zài）飛向塑（sù）料（liào）製（zhì）品過程中和其他分子的碰撞，減（jiǎn）少氣體中（zhōng）的活性分子（zǐ）和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等)，從（cóng）而提供膜（mó）層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓（yā）力等於（yú）或低於10-2Pa，對於蒸發（fā）源與被鍍製品和薄膜質（zhì）量要求很高的場合，則要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um太薄（báo），反射率低;太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。