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新型塗層工藝——電(diàn)鍍(dù)

發布時間:2021-12-21 16:54:33  瀏(liú)覽次數:
1. Ni-Co合金鍍層

Ni-Co合金鍍層具有優(yōu)異(yì)的高溫耐(nài)磨性能,已經成功應用到鋼廠連鑄(zhù)連軋機的關鍵部件結晶器表層,大幅度提高了結晶器的使用壽命。連鑄結晶器的(de)工作θ在350℃左右(yòu)。連鑄結晶器應具有良好的導熱性,同時還需承受與(yǔ)鋼坯之間的摩擦。為此,連鑄結晶器通體(tǐ)采用銅合金製造,並在結晶器與鋼坯相接觸的表麵製備層厚度在數毫(háo)米的高溫耐磨材料層。
Ni-Co合金鍍層優異(yì)的(de)高溫耐磨性能正適(shì)應了結晶器對(duì)與鋼(gāng)坯相接(jiē)觸表麵的高溫耐磨性要求。目前,Ni-Co合金鍍層已經大量應用(yòng)在連鑄結晶器表層(céng)鍍層材料(圖1)。

圖片(piàn)

2.電鍍納米金屬(shǔ)多層膜
納米金屬多層(céng)膜是一(yī)-種由厚度在納(nà)米尺度的不同金屬層交替疊加形成的金屬多層膜。由於構成納(nà)米金屬多層膜的各金屬材料層的厚度在納米尺度,這類薄膜材料往往表現出納米(mǐ)材料獨特的力學性能、電磁學性能和光學性能。天(tiān)津(jīn)大(dà)學姚素薇等(děng)采用電鍍技(jì)術(shù)製備了Ni80Fe20/Cu納米多層膜(圖2)。當多層膜結構(gòu)[ NiFe( 16 nm )/Cu(26nm)]為80層時(shí),巨磁電阻GMR值可(kě)達64%。

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3.複合鍍技術
複合鍍技(jì)術通(tōng)過(guò)將無機材料以及高分子材料的粉體加入鍍液中,攪拌使之(zhī)在鍍液中均勻分散,伴隨著電鍍或化學(xué)鍍過程的進行將這類粉體包埋進鍍層(céng),形成複合(hé)鍍層材料。
這(zhè)類複合鍍(dù)層材料兼具基體金屬材料及彌散分布(bù)於基體金屬中的無機或高分子(zǐ)材料的優勢,表現出優異的綜合性能.采用化學複合鍍的方法製備(Ni-P)-ZrO2複合鍍層的成分及鍍層(céng)斷麵的掃描電鏡照片如圖3所示。
由圖3可以看出,ZrO2顆粒在Ni-P合金基體中均(jun1)勻分布(bù)。這種(Ni-P)-Zr02複合鍍層的硬度(dù)超過600HV (圖4),熱處理後(hòu)的硬度更超過900HV。

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改變複合鍍層中基體金屬或(huò)複合顆粒,可以得到不同性能的複合鍍層。將圖4中的ZrO2顆粒換成SiC顆粒,同樣采用化學複(fù)合鍍的方法製備(bèi)的(Ni-P)-SiC化學(xué)複合材料鍍層,熱處理後的硬度可達1200HV[16)(圖(tú)5)。

圖(tú)片

為了改善純Ni鍍層的(de)摩(mó)擦學性(xìng)能,將具有自潤滑(huá)性能的聚(jù)四氟乙烯(xī)( PTFE)顆粒與Ni複合,可(kě)以製備出具有良好自(zì)潤滑特性的Ni-PTFE複合鍍層。
圖6為Ni-PTFE複合鍍層中PTFE質量分數對摩擦係數的影響。由圖6可以看出,隨著鍍液中PTFE顆粒濃度的增(zēng)加,Ni-PTFE複合鍍層的摩擦係數不(bú)斷降低,最低接近0.06。

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目前,應用於複合電鍍的基質金屬以及(jí)複合微(wēi)粒的種類(lèi)還非常有(yǒu)限。將更多種類的基質金屬與更大範圍的微粒進行複合鍍(dù),相信會有性能更多樣化也更(gèng)優異的複合(hé)鍍層出現。



2印製板及電子封裝中電(diàn)鍍技術的應用(yòng)


電鍍技術的最大特點,在於其製(zhì)造過程是從原子、離(lí)子尺度開始,而且無需高(gāo)溫高壓等(děng)苛刻條(tiáo)件,易於(yú)實現定點定位生長(zhǎng)。電鍍技術的這一-特點,使其在印製板及電子(zǐ)封裝領(lǐng)域成為(wéi)不可替代的關鍵技術(shù)。
1.芯片中的電(diàn)鍍金屬互聯技術
摩爾預測,每隔24個月(yuè)單位麵積上集成晶體管的數量將翻(fān)倍。目前的集成電路(lù)技術處在22/20納米技術節點(diǎn)。未來矽(guī)基晶體管還將繼續縮小,從現有的22納(nà)米(mǐ)技(jì)術代一.路發展到4納米技(jì)術代。目前,集成電路(lù)中接觸孔工藝已經(jīng)被局域互連技術替換。局域互連技術的關鍵在於第一層金屬圖形形成之前先形成通孔(kǒng),再采用基於電鍍技術的雙大馬士革(gé)工藝同時(shí)填充金屬Cu(圖7圖8)。

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2.三維電子封裝技術
隨著集成電路中晶體管數(shù)量的逐年(nián)成倍增加,三(sān)維集成與封裝技術越來越顯示出其重要性。目(mù)前,三維集成與封裝技術發展的重點在於三(sān)維(wéi)疊層封裝以及封裝體的三維疊層,而鍵合技術則是實現三維疊層的關鍵。由於(yú)金屬/焊料微凸點鍵合在電氣互連、散熱以及結(jié)構支撐等方麵具有的優勢,已經成為鍵合技術中的關鍵技術。高密度的微凸點(diǎn)是實現金屬(shǔ)/焊料微凸點鍵(jiàn)合的基礎。將光刻掩(yǎn)膜(mó)技術與金屬電鍍技術相結合製備出的尺寸精確的(de)凸(tū)點(diǎn),完全(quán)能夠達到三(sān)維疊層對微凸點鍵合的要求(圖(tú)9)。

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將集成電(diàn)路晶片上的銅(tóng)配(pèi)線技術與多層聚(jù)酰(xiān)亞胺印製板(bǎn)技術相結合形成的在多層印製板內的IC封裝技術( Wafer And Board level Embedded Tech-nology,W ABE Technology@),可以製(zhì)備出集成電路(lù)內藏(cáng)基板(圖10)。這(zhè)一技術已經開始應用於新(xīn)一代係統封裝以(yǐ)及手機基板。

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3.超高密度印製板(bǎn)及層間互聯技術
近(jìn)年市場上出現的各種新型便攜(xié)式電子產品已經普遍采用超高密度印製電路板。這類產品中的超高密度印製電路板不僅是各種組件的承載平台,更借助於立體封裝技術實現了係統整合(圖11)。
由(yóu)印製線路的(de)高密度化以及更高的接點密度形成的超高(gāo)密度印製線路板已經成為未來印製板技術(shù)的(de)發展方向(xiàng)。超高密度印(yìn)製板(bǎn)技術的關鍵在於任意(yì)層間的(de)金屬互連技術。任意(yì)層間的金屬互連技術可實現超高密度印製(zhì)板內(nèi)所有(yǒu)相鄰兩(liǎng)層之間的電氣連接。
通過(guò)電鍍銅(tóng)技術實現超高密度印製板內任意相鄰兩層之間的盲孔連接,是目前應用最為廣泛(fàn)的任意(yì)層間金屬(shǔ)互(hù)連技(jì)術(圖12)。

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3微電機(jī)係統(tǒng)中(zhōng)電鍍技術(shù)的應用


微電子係統(tǒng)與微機械係統相結合形成的微電機係(xì)統( MEMS) ,其特點是尺寸微小,功(gōng)能強大。
近年,隨著人工智能技(jì)術(shù)的高速發展,MEMS產(chǎn)業已經全方位快(kuài)速滲透(tòu)到(dào)軍事、醫療、生物(wù)、仿生學及航空航天等領(lǐng)域。構成微電機係(xì)統的零部件尺度都在微米甚至(zhì)納米。
電鍍技術是一一個從原子(zǐ)、離子尺度開始的材(cái)料製造(zào)以(yǐ)及零部件製造技(jì)術。電鍍技術與光刻蝕技術相結合發展而成的MEMS技術,已經成(chéng)為MEMS領域的尖端技術(2426)。
圖13為采用電鍍MEMS技術製造的金屬部件照片(piàn),圖14為MEMS模塊中微小的機械部件照片,圖15為采(cǎi)用MEMS技(jì)術製(zhì)造的納米泵技術,圖16為EPSON公司采(cǎi)用MEMS技術製(zhì)造的微型飛行(háng)器,圖17為采用MEMS技術製造的可移動微型機器人。

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4零部件及設備再製造中電鍍技術的應用


零部件的失效表(biǎo)現在其尺寸偏(piān)離設計值。零部件(jiàn)失效導致設備不能正常運行,甚至報廢。再製造的意義,在於對零部件實施再製造後,不僅零部件的(de)尺寸恢複到最初設計值,而且失效設備的壽命超過新品。再(zài)製造技(jì)術是實現節約型社會、循環經濟的需要。
由於電鍍技術易於實(shí)現材料的定點(diǎn)、定位生長,製造過程也無需高溫(wēn)、高壓。此外,現有的各種高性能鍍層製造技術(例如高溫抗氧化鍍層、耐磨鍍層(céng)及耐腐蝕鍍層等(děng))也使得失效零部件的再製造成為(wéi)可能。電鍍技術(shù)的上述特點使其成為零部件及設備再製造(zào)中的關鍵技術采用電鍍技術對(duì)失(shī)效泵的泵體、齒輪箱和蓋子等部件進(jìn)行再製(zhì)造,再更換新的齒輪、軸、軸承、密封件、轉子和轉子螺母,就完成了泵(bèng)的再製造過程(圖18、圖19)。

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采用電鍍技術對失效中央(yāng)空調壓縮機[圖20(a)]的失效部件進(jìn)行再製(zhì)造後[圖20(b)],重新組裝的中央空調壓縮機[圖20(c)]的性能及壽命均超過新品。

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                                                                                                                       5結(jié)束語(yǔ)


伴隨著21世紀高科技的大(dà)量湧(yǒng)現,電子零部件的(de)微型化趨(qū)勢,以及(jí)國家可持續發展戰略的實施,為電鍍技術的應用提供了前所未有的大量機(jī)遇,同時也給電鍍技術的發展提出了
方麵麵的挑戰。電鍍工(gōng)作者需(xū)要不斷拓展思路,大膽創新。可以(yǐ)相信,未來的電鍍技術將成為更多(duō)高技(jì)術領(lǐng)域的尖端技術。


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