磁控（kòng）濺射設備的主要用途

主要用途（tú）有：

1、各種（zhǒng）功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等（děng）作用的薄膜。例如（rú），低溫沉（chén）積氮化矽減（jiǎn）反射膜（mó），以提高太陽（yáng）能電池的光電轉換效率。

2、裝飾領域的應（yīng）用，如各種全反（fǎn）射膜及半透明膜等，如手（shǒu）機外殼，鼠（shǔ）標等（děng）。

3、在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機

4、化學氣相沉積(CVD)生（shēng）長困難及不適（shì）用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大麵積非常均勻的薄膜。

5、在光學領域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技（jì）術也已在（zài）光學薄膜(如（rú）增透膜)、低輻射玻璃和透（tòu）明導電玻璃等方麵得到（dào）應用。特別是透明導電玻璃廣泛應用於（yú）平板顯示（shì）器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與（yǔ）器件、傳感器等。

6、在機械加工行業中，表麵功能膜、超硬膜，自（zì）潤滑薄膜的表（biǎo）麵沉積技術自問世以來（lái）得到長足發展，能有效的提高表麵硬度、複合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能，從而大幅度地提高塗層產品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被大（dà）量（liàng）應用的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻（zǔ）薄（báo）膜、薄（báo）膜發光材（cái）料、太陽能電池（chí）、記憶合金（jīn）薄膜研（yán）究方麵發揮重要作用（yòng）。