真空電鍍（dù）的工藝原理

真空電鍍法是在真空條件下加熱（rè）金屬，使其熔融、蒸發，冷（lěng）卻後在塑料表（biǎo）麵形成金屬薄（báo）膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：可以利用電阻（zǔ）產（chǎn）生的熱能（néng），也可以（yǐ）利用電子束。

在對塑料製品實（shí）施（shī）蒸鍍時，為了（le）確保金屬冷卻時所散發出的（de）熱量不使樹（shù）脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬（shǔ）或合金不適合於蒸鍍。置待（dài）鍍金屬和被鍍塑料製品於真空室內，采用一定方法加熱待鍍（dù）材料，使金屬蒸發（fā）或升華（huá），金（jīn）屬蒸汽遇到冷的塑料製品表麵凝（níng）聚成金屬（shǔ）薄膜。

在真空條件下可減少（shǎo）蒸發材料的原子、分子（zǐ）在飛向（xiàng）塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少（shǎo）氣體中的活（huó）性分子和蒸發源材料間的化（huà）學反應(如氧化（huà）等)，從而提供膜層的（de）致密（mì）度、純度、沉積速率和與附著力。通常（cháng）真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍（dù）製品（pǐn）和薄膜質量要求很高的場合，則（zé）要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度（dù）0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。