物理氣相沉積(PVD)

　　物理氣相沉積(PVD)描述了各種真空沉積方法，通過將所需的薄膜材料的（de）蒸發（fā）形式（shì）冷凝到（dào）各種工件表麵(例（lì）如半導體晶圓片（piàn）)來沉積薄膜。

　　PVD鍍膜和PVD鍍膜機

　　PVD(物（wù）理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離（lí）子鍍膜。 對應於PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸（zhēng）發鍍膜機、真空濺射鍍膜機 和真空離子鍍膜機這三種（zhǒng）。

　　近十多年（nián）來，真空離子鍍膜技術的發展是（shì）很快的，它已經成為當今（jīn）比（bǐ）較先進的（de）表麵處（chù）理方式之 一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真（zhēn）空離子（zǐ）鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就 是（shì）真空離子鍍膜機。

　　PVD鍍膜技術的原理

　　PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采（cǎi）用低電壓、大電流的電弧放（fàng）電 技（jì）術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被（bèi）蒸發（fā）物質與氣體都發生電離，利（lì）用電（diàn）場的（de）加速作用（yòng）， 使被蒸發物質及其反應產物沉（chén）積在工件上。

　　優勢

　　PVD塗層有時比電鍍工藝（yì）應用的塗層（céng）更硬，更耐腐蝕。大多數塗（tú）層具（jù）有高溫和良好的衝擊強度，優（yōu）異的耐磨（mó）性和耐久性，所以幾乎不需要保護層。

　　能夠（gòu）利用幾乎任何類型的無機和一些有機塗層材料，在同（tóng）樣不同的基底和表麵使用各種各樣的飾麵。

　　比電鍍、噴漆等傳（chuán）統塗裝工藝更環保。

　　可（kě）以使用一種以上的技術來沉積給定的薄膜。